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簡要描述:HPR-30過程氣體分析儀(Process Gas Analyser),適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空過程。可檢測反應室內(nèi)存在的所有成分,以及系統(tǒng)析出的新組分。
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
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應用領域 | 綜合 |
HPR-30過程氣體分析儀應用:
· CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
· 真空涂覆/ 等離子蝕刻
· 濺射沉積
· 污染物研究
· 基本壓力辨別
· 泄漏探測/ 實質(zhì)上的泄漏/脫附分析
· 除氣/烘烤/泵效能
· 反應室/過程氣體污染物
HPR-30過程氣體分析儀特點:
· 簡潔的桌上型,移動推車或控制臺架結構
· Direct re-entrant流孔板,差式泵,以達到z適宜的靈敏度
· 連續(xù)取樣從1mbar至 10-4mbar.
· 高靈敏度(至5ppb),質(zhì)量數(shù)至1000amu
· 軟離子化技術,分析復雜有機物,或表觀MS研究
· 穩(wěn)定性好(24h之上,峰高變化小于±0.5%)
· MASsoft軟件控制,或由局域網(wǎng)進行多個系統(tǒng)控制
· 氣動閥自動控制;出現(xiàn)電力不足或壓力過大等不安全狀況時可啟用手動隔離裝置
· 自動、同時數(shù)據(jù)取得、分析,實時顯示、報警。
上一產(chǎn)品:HPR-80活潑性/腐蝕性氣體分析儀
下一產(chǎn)品:QGA定量氣體分析質(zhì)譜儀
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